光刻機的原理是什麼？為何14納米技術壁壘至今無法逾越？丨AC茂的模

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有兩個錯誤需要指出，一是EUV光源，cymer的EUV光源使用的是德國通快的大功率二氧化碳激光器發出波長約為10.6um的激光打擊錫滴，使其熱輻射峰值波長為13.5nm的EUV光，並不是UP所說的用193nm的DUV光打擊錫滴，193nmDUV光打在錫滴上的吸收率很低，另外是DUV光源的功率做不大，日本gigaphoton商用的波長為193nm的DUV光源，功率最大隻能做到90W。通快的二氧化碳激光器功率最大能做到50KW以上。第二外錯誤是，上微精度為90nm的DUV光刻機是乾式光刻機，不需要用在鏡頭和矽片間加水。浸潤式DUV光刻機用於45nm及以下的工藝節點中，網傳上微的用於28nm工藝節點的浸潤式DUV光刻機今年才通過科技部的認定，量產還需要幾年的時間。上微90nm精度的DUV乾式光刻機SSA/600已經量產，燕東微，長江，長鑫等企業均有採購。

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#光刻機 #物理 #科普